Студопедия — Электронно-дырочный переход в равновесном состоянии.
Студопедия Главная Случайная страница Обратная связь

Разделы: Автомобили Астрономия Биология География Дом и сад Другие языки Другое Информатика История Культура Литература Логика Математика Медицина Металлургия Механика Образование Охрана труда Педагогика Политика Право Психология Религия Риторика Социология Спорт Строительство Технология Туризм Физика Философия Финансы Химия Черчение Экология Экономика Электроника

Электронно-дырочный переход в равновесном состоянии.






ЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ ПЕРЕХОДЫ

2.1. ЭЛЕКТРОННО-ДЫРОЧНЫЙ ПЕРЕХОД

 

Электронно-дырочный переход (p-n- переход) – тонкий переходной слой, образующийся между двумя областями кристалла с разным типом проводимости. Этот слой обеднен носителями заряда и обладает высоким удельным сопротивлением.

Металлургической границей называется поверхность, разделяющая p- и n- области

Различают резкий p-n- переход и плавный. В резком переходе тип проводимости резко (ступенчато) меняется на металлургической границе. В плавном переходе один тип проводимости плавно переходит в другой, металлургической границей считается поверхность, где Na=Nd.

Переходы бывают симметричные (Na) p= (Nd) n и несимметричные (Na) p¹;(Nd) n. Когда концентрации отличаются на 2-3 порядка, переход называется односторонним, концентрация носителей в сильнолегированной области обозначается индексом «+»: p+-n или n+-p. В этом случае сильнолегированная область называется эмиттером, слаболегированная – базой.

 

Электронно-дырочный переход в равновесном состоянии.

 

Контактная разность потенциалов.

При создании контакта двух областей с разной концентрацией носителей возникает диффузия носителей в область, где их концентрация меньше: дырки диффундируют из p- области в n- область, электроны – обратно. Здесь они рекомбинируют с основными носителями и исчезают. В результате образуется слой, обедненный носителями заряда, в котором заряд ионов акцепторных и донорных примесей не компенсирован (рис. 2.1). Этот объемный заряд создает электрическое поле E, которое препятствует дальнейшей диффузии носителей. При равновесии ток отсутствует, т.е. должны выполняться условия:

jn = en m nE + eDn (dn/dx)=0, jp = ep m pE - eDp (dp/dx). (2.1)

При этом возникает контактная разность потенциалов, которую легко найти их этих выражений, выразив напряженность E через градиент потенциала U: E=-dU/dx.

Используя соотношение Эйнштейна Dp= j T×;m p, получаем

.

Интегрирование дает , отсюда контактная разность потенциалов jк равна

, (2.2 а)

где нулевым индексом обозначены равновесные значения концентрации в соответствующих областях. Аналогично, jк выражается через концентрацию электронов:

. (2.2 б)

С учетом того, что в области рабочих температур pp 0» Na, и pn 0» ni2/Nd, выражение (2.2) можно записать в виде

(2.3)

Следует отметить, что при выводе этих формул не использованы какие либо особенности структуры p-n- перехода, значение jк от них не зависит.

 

Распределение носителей, электрического поля и потенциала в резком
p-n-переходе
.

Концентрация основных носителей заряда резко падает при движении вглубь p-n- перехода, сравнивается с собственной концентрацией на металлургической границе, которая принята за начало координат, и далее уменьшается до концентрации неосновных носителей. Распределение носителей показано на рис.2.2 в логарифмическом (а) и линейном (б) масштабе. Строго говоря, границы перехода несколько размыты, но обычно рассматривается идеальная модель с резкими границами, считая, что на этих границах концентрация носителей резко падает до нуля. Распределение плотности заряда r в этой модели показано на рис.2.2 г. Плотности заряда в p- и n- областях обедненного слоя (толщиной dp и dn, соответственно) постоянны и равны

r =-eNa, в области -dp<x<;0, (2.4 а)

r =eNd, в области 0 <x<dn. (2.4 б)

p-n- переход в целом электронейтрален, заряды в этих областях равны:

q=eNa d p= eNd d n (2.5)

Отношение dp/dn=Nd/Na, толщина p-n- перехода d = d p+ d n, отсюда

, (2.6)

Напряженность электрического поля E можно найти из одномерного уравнения Пуассона

, (2.7)

где U – потенциал, e – диэлектрическая проницаемость, e0 – диэлектрическая постоянная.

С учетом того, что dU/dx=-E, и выражений (2.4) это уравнение записывается в виде

и (2.8)

Интегрируя при граничных условиях , получаем для p- области линейную функцию:

(2.9)

Максимальная напряженность достигается на металлургической границе:

. (2.10)

Знак “–“ здесь показывает, что поле направлено противоположно координате x. Далее в области напряженность поля спадает по линейному закону до нуля (рис.2.2 д).

Потенциал U(x) получается интегрированием функции E(x) и описывается квадратичной функцией (рис.2.2 е). Контактная разность потенциалов, очевидно, равна площади треугольника на рис.2.2 д:

. (2.11)

Отсюда находим толщину p-n- перехода в равновесном состоянии:

(2.12)

Для резко несимметричного перехода одной из составляющих dp и dn можно пренебречь, практически весь переход располагается в слаболегированной области – базе, формула (2.12) при этом упрощается:

, (2.12 а)

где N – концентрация легирующей примеси в базе.

В таблице 2.1 приведены примеры, позволяющие судить о порядке величин jк, Emax и d (Т =300 К).

 

Таблица 2.1

полупроводник ni, см-3 Na, см-3 Nd, см-3 jк, В Emax, кВ/см d, мкм
Ge 2,4×1013 1018 1014 0,36   2,4
Si 2×1010 1019 1016 0,83   0,3

 

Энергетическая диаграмма p-n- перехода приведена на рис.2.3. Уровень Ферми одинаков для всей равновесной системы. Между областями существует потенциальный барьер, равный ejк. Основные носители, движущиеся к переходу, отражаются обратно, т.к. поле в переходе для них является тормозящим. Лишь ничтожная часть их имеет энергию W>ejк, достаточную для преодоления потенциального барьера. Неосновные носители свободно проходят через переход, для них электрическое поле является ускоряющим. Для наглядности можно представить электроны как тяжелые шарики, катящиеся по дну зоны проводимости, а дырки – как легкие пузырьки катящиеся, по потолку валентной зоны.

 







Дата добавления: 2015-06-29; просмотров: 2752. Нарушение авторских прав; Мы поможем в написании вашей работы!



Важнейшие способы обработки и анализа рядов динамики Не во всех случаях эмпирические данные рядов динамики позволяют определить тенденцию изменения явления во времени...

ТЕОРЕТИЧЕСКАЯ МЕХАНИКА Статика является частью теоретической механики, изучающей условия, при ко­торых тело находится под действием заданной системы сил...

Теория усилителей. Схема Основная масса современных аналоговых и аналого-цифровых электронных устройств выполняется на специализированных микросхемах...

Логические цифровые микросхемы Более сложные элементы цифровой схемотехники (триггеры, мультиплексоры, декодеры и т.д.) не имеют...

Постинъекционные осложнения, оказать необходимую помощь пациенту I.ОСЛОЖНЕНИЕ: Инфильтрат (уплотнение). II.ПРИЗНАКИ ОСЛОЖНЕНИЯ: Уплотнение...

Приготовление дезинфицирующего рабочего раствора хлорамина Задача: рассчитать необходимое количество порошка хлорамина для приготовления 5-ти литров 3% раствора...

Дезинфекция предметов ухода, инструментов однократного и многократного использования   Дезинфекция изделий медицинского назначения проводится с целью уничтожения патогенных и условно-патогенных микроорганизмов - вирусов (в т...

Что такое пропорции? Это соотношение частей целого между собой. Что может являться частями в образе или в луке...

Растягивание костей и хрящей. Данные способы применимы в случае закрытых зон роста. Врачи-хирурги выяснили...

ФАКТОРЫ, ВЛИЯЮЩИЕ НА ИЗНОС ДЕТАЛЕЙ, И МЕТОДЫ СНИЖЕНИИ СКОРОСТИ ИЗНАШИВАНИЯ Кроме названных причин разрушений и износов, знание которых можно использовать в системе технического обслуживания и ремонта машин для повышения их долговечности, немаловажное значение имеют знания о причинах разрушения деталей в результате старения...

Studopedia.info - Студопедия - 2014-2024 год . (0.014 сек.) русская версия | украинская версия