Студопедия — Эффект модуляции толщины базы. Определения, следствия
Студопедия Главная Случайная страница Обратная связь

Разделы: Автомобили Астрономия Биология География Дом и сад Другие языки Другое Информатика История Культура Литература Логика Математика Медицина Металлургия Механика Образование Охрана труда Педагогика Политика Право Психология Религия Риторика Социология Спорт Строительство Технология Туризм Физика Философия Финансы Химия Черчение Экология Экономика Электроника

Эффект модуляции толщины базы. Определения, следствия






Эффект модуляции толщины базы - изменение толщины базы при изменение напряжения на К.

На ЭП напряжение подается в прямом направлении, и оно мало изменяется при работе транзистора, поэтому ЭП узкий и ширина его изменяется незначительно. КП смещен в обр. направлении, поэтому его ширина больше и изменяется в широких пределах при изменении напряжения на коллекторе. А т.к. в биполярных транзисторах рб>> р к, то КП расширяется в основном в область базы, уменьшая ее толщину.

Следствия модуляции:

1. Iк=f(Uкб), w= f(Uкб), Iк=аIэ+ Iк0 , то есть Iк (Uкб) Iэ+ Iк0

2. Частотные св-ва транзистора зависят от Uкб (увел. Uкб умен.W, уменьш. время пролёта tпр)

3. КП кроме барьерной области обладает диффузионной (Ск_бар+Ск_диф)

4. Эффект модуляции толщины базы обуславливает наличие обратной связи, характеризующей влияние коллекторного перехода на эмиттерный переход из-за их близкого расположения.

Изменение распределения избыточной концентрации дырок в базе с увеличением коллекторного напряжения (пунктирная линия) при фиксированных значениях напряжения на эмиттером переходе (а) и тока эмиттера (б):

а) Uэб = сонст, ↑Uкб => ↑Iэ б) Iэ=сонст, ↑Uкб =>↓Uэб

р0 избыточная концентрация дырок в базе на границе эмиттерного перехода.

∆p зависит от Uэп. Чем выше прямое напряжение эмиттер - база, тем больше концентрация дырок в базе у эмиттерного перехода, тем больше градиент концентрации дырок в базе.

Поскольку диффузионный ток эмиттера зависит от градиента концентрации дырок в базе:

, то при постоянном напряжении на эмиттерном переходе и с увеличением по модулю напряжения на коллекторе возрастает градиент концентрации, а следовательно, и ток эмиттера.

На (б) показано влияние UKб на распределение дырок в базе, если поддерживать постоянной величину тока эмиттера. С увеличением UKб (по модулю) толщина базы уменьшается. Чтобы ток эмиттера оставался постоянным, необходимо, чтобы с изменением UKб градиент концентрации оставался неизменным. Поэтому с увеличением UKб должна уменьшается избыточная концентрация дырок на границе эмиттерного перехода (ΔР2<ΔP1). А это может быть достигнуто лишь путем уменьшения входного напряжения UЭБ.


14. Зависимость коэффициентов передачи по току (α, β) транзистора от напряжения коллектора, тока эмиттера и температуры.

  1. Iэ=const, Т= const

2. Uкб=const, Т= const

AB: увел. Iэ увел. , уменьш. рекамбинац. потери на ловушках отсюда увел. χтоесть увел. а

ВС: увел. поверхносн. рекомбинация уменьш.χтоесть уменьш

 

3. Uкб=const, Iэ= const

а) при увил. Т увел.τ время жизни носителей.(ловушеи не успевают захватывать)

б) при увел. Т уменьш.μ подвижность отсюда возрастает рб

 

(на графике Т меняется от -50 до +50)

 

 

-коэф. уселения по току в схеме с ОЭ. β также зависит от как и α но с большим масштабом по оси изменения β. (Графики такие же (α =0,98 β =49) (α=0,99 β=99))
15.Входные характеристики транзистора с общей базой. Их зависимость от напряжения колектора и температуры.

Входными характеристиками биполярного транзистора в схеме включения с общей базой называются зависимости тока эмиттера от напряжения эмиттер - база при постоянном значении напряжения коллектор - база.

Входные характеристики: Входная характеристика при UКБ = 0 (зависимость 1, рис.3) аналогична прямой ветви вольтамперной характеристики полупроводникового диода. Эта характеристика начинается из начала координат, при увеличении входного напряжения ток эмиттера /3 экспоненциально увеличивается:

При больших токах Iэ вх. хар-ки близки к линейным. Наклон лин. участка опр-ся в объемным сопротивлением базы rБ.

При напряжении UKБ > 0 кривые смещаются вверх относительно начала координат и к оси токов (падение напряжения на объемном сопр. базы rБ при протекании тока IK0)

При “-“ напряжении на К через КП протекает ток обратносмещенного рn-перехода I ко, а т.к. база мало легирована примесями, то на rБ будет создаваться падение напряжения U rБ = Iко rБ, в результате чего Э получает положительное смещение относительно базы и начинает инжектировать дырки, что приводит к появлению нач. тока Э: (UKБ=0)

Смещение характеристик влево при увеличении коллекторного напряжения объясняется эффектом модуляции толщины базы. Эффект модуляции заключается в изменении толщины базы при изменении напряжения на коллекторе.

Вх. хар-ки кремниевого транзистора (а) смещены от начала координат в сторону больших прямых напряжений (контактная разность потенциалов у кремниевых транзисторов больше, чем у германиевых).

Вх. хар-ки германиевых транзисторов при различных Т – (б). С увеличением Т вх. ток увеличивается, вх. хар-ка смещается влево вследствие роста внутр. эн. осн. носителей заряда и уменьшения контактной разности потенциала φкэ и потенциального барьера. Изменение начального тока эмиттера с ростом температуры окружающей среды связано с экспоненциальной зависимостью от температуры неуправляемого тока коллекторного перехода. С увеличением тока Iко возрастает падение напряжения на объемном сопротивлении базы, и это приводит к росту начального тока эмиттерного перехода.








Дата добавления: 2015-04-19; просмотров: 3545. Нарушение авторских прав; Мы поможем в написании вашей работы!



Практические расчеты на срез и смятие При изучении темы обратите внимание на основные расчетные предпосылки и условности расчета...

Функция спроса населения на данный товар Функция спроса населения на данный товар: Qd=7-Р. Функция предложения: Qs= -5+2Р,где...

Аальтернативная стоимость. Кривая производственных возможностей В экономике Буридании есть 100 ед. труда с производительностью 4 м ткани или 2 кг мяса...

Вычисление основной дактилоскопической формулы Вычислением основной дактоформулы обычно занимается следователь. Для этого все десять пальцев разбиваются на пять пар...

Объект, субъект, предмет, цели и задачи управления персоналом Социальная система организации делится на две основные подсистемы: управляющую и управляемую...

Законы Генри, Дальтона, Сеченова. Применение этих законов при лечении кессонной болезни, лечении в барокамере и исследовании электролитного состава крови Закон Генри: Количество газа, растворенного при данной температуре в определенном объеме жидкости, при равновесии прямо пропорциональны давлению газа...

Ганглиоблокаторы. Классификация. Механизм действия. Фармакодинамика. Применение.Побочные эфффекты Никотинчувствительные холинорецепторы (н-холинорецепторы) в основном локализованы на постсинаптических мембранах в синапсах скелетной мускулатуры...

Репродуктивное здоровье, как составляющая часть здоровья человека и общества   Репродуктивное здоровье – это состояние полного физического, умственного и социального благополучия при отсутствии заболеваний репродуктивной системы на всех этапах жизни человека...

Случайной величины Плотностью распределения вероятностей непрерывной случайной величины Х называют функцию f(x) – первую производную от функции распределения F(x): Понятие плотность распределения вероятностей случайной величины Х для дискретной величины неприменима...

Схема рефлекторной дуги условного слюноотделительного рефлекса При неоднократном сочетании действия предупреждающего сигнала и безусловного пищевого раздражителя формируются...

Studopedia.info - Студопедия - 2014-2024 год . (0.011 сек.) русская версия | украинская версия